关键技术

纳米级高精度的 3D 微结构制造技术。

线扫描时空聚焦双光子光刻技术 （Line-TF TPL）

纳米级高精度的 3D 微结构制造技术

Line-TF TPL 是一种突破性的双光子聚合（TPP）3D纳米制造技术，结合了时空聚焦与线扫描机制。其核心创新在于：

  • 使用数字微镜器件（DMD） 动态控制激光脉冲的空间分布；

  • 通过线形光束扫描取代传统的单点聚焦扫描；

  • 实现并行化加工，大幅提升打印速度与结构一致性。

与传统并行双光子光刻不同，传统并行双光子光刻速度慢、精度低、灰度控制有限且需高脉冲能量，而线扫描时空聚焦双光子光刻（Line-TF TPL）以快约1000倍的速度、近各向同性的高分辨率、1600级灰度调控及低能耗实现连续、无拼接伪影的纳米制造。

技术亮点

亚微米级制造分辨率

任意三维结构可控制

支持多种光敏材料

无需多步曝光即可完成立体结构

应用场景

生物医学支架

光学功能结构

MEMS 微机电器件

平面投影

二维投影辅助的几何精度控制技术

Plane Projection 是我们用于光学打印工艺中的二维辅助投影技术。该技术可在实际成型前，通过虚拟平面进行结构位置规划与误差修正，有效提升打印几何的对齐精度和成品一致性。

通过在建模软件与打印控制中引入 XY 平面的参考投影，系统能在 Z 轴打印中精准定位每一个层级。Plane Projection 适合用于多步打印、异质结构连接与多材质协同打印场景。

 

核心优势

降低微米级错位误差，提升精度一致性

实现多结构、多材料的几何对接

可与 TPP 技术组合，提高复杂结构成功率

简化路径计算，降低失败率与校正成本

应用场景

多层微结构打印任务

光电器件结构对位控制

生物仿生结构层级对齐

平面微阵列或渐变结构构建

联络我们

我们专注于突破性的3D纳米制造技术，期待与您携手合作。

如有任何技术问题、合作洽谈或媒体采访需求，欢迎通过以下方式联系我们。