近日，合肥超奈科技新品发布会在合肥成功举办。公司首席技术官钟秋园在发布会上正式揭幕了超奈科技两款旗舰产品——LINESCAN 100i 全带宽连续灰度3D纳米光刻系统与UV SCAN 100 紫外激光直写光刻机，标志着我国在微纳制造装备领域迈出了关键一步。公司创始人兼董事长陈世祈教授出席发布会并发表致辞。来自政府部门、科研院所、产业界的领导、专家及媒体嘉宾齐聚一堂，共同见证了这一重要时刻。
十年磨一剑: 从《Science》论文到量产设备
在纳米3D打印领域，传统双光子技术长期依赖”点扫描”工作原理——精度虽高，但速度极慢、成本高昂。打印一个毫米级器件往往需要数周时间，成本高达数万元，速度缓慢、拼接缺陷、带宽限制、硬件昂贵等瓶颈严重制约了这项前沿技术的产业化进程。
早在2015年，陈世祈教授团队便开始探索破局之路，以DMD与二元全息技术奠定光束整形基础。经过多年攻关，2019年团队成功研发出基于飞秒面投影的双光子光刻系统，相关成果发表于国际顶级学术期刊《Science》，并于2018年荣获R&D 100 Award。此后，团队在2022年实现多材料面投影制造，2023年突破多焦点并行光刻，2024年完成面投影双光子光刻原型机，实现了1000倍速度提升、10倍分辨率提高、20余种材料兼容和十分之一的成本。2025年，团队最终攻克全带宽、连续、灰度3D纳米光刻技术，十年研发路径清晰而坚定。
陈世祈教授在致辞中表示：”科研成果若无法落地转化，终将止步于实验室。如何让实验室里’从0到1’的技术突破，真正走向产业、实现’从1到N’的价值跃迁，是我一直思考的核心命题。今天的发布，正是我们对这一问题最坚定的回答。”
LINESCAN 100i: 重新定义纳米制造的未来
作为本次发布会的核心产品，LINESCAN 100i 是一款全带宽连续式线照明时空聚焦3D纳米光刻系统，专为科学研究探索与小批量生产设计，提供全带宽连续、灰度精控、亚百纳米无拼接的3D纳米光刻解决方案。
在核心参数方面，LINESCAN 100i实现了横向分辨率75 nm、轴向分辨率99 nm的三维均匀超高分辨率，光学带宽达到6.19 GB/s，数据传输率2.33 GB/s，DMD刷新率超过10 kHz，最大扫描范围可达厘米级。
这些数字背后，是五大核心技术优势的集中体现。其一，系统采用连续扫描和灰度拼接技术，实现无间断制造，彻底消除传统”停止-启动”模式带来的拼接缺陷，成品表面更加平整完美。其二，系统支持1600像素级灰度调节，通过精确控制DMD上每个像素的开关状态和数量，能够制造具有连续变化材料特性的结构，如表面光滑的微透镜、梯度折射率光学元件等。其三，时空聚焦技术带来的三维均匀分辨率，轴分辨率高度均匀，优于传统双光子光刻。其四，连续打印带宽6.19 GB/s，数据准备速率168 MB/s（每线程），远超同类并行TPL方法，可匹配高打印吞吐量、避免机器闲置。其五，线扫描策略大幅降低了对激光脉冲能量的要求，无需昂贵的毫焦级放大器系统，可采用国产化激光器，连续制造模式使设备利用率接近100%，显著降低使用成本。
在应用层面，LINESCAN 100i已展现出跨尺度、跨领域的强大赋能能力。在精密微光学元件制造方面，系统可在玻璃或柔性基底上制造高保真灰度全息薄膜，也可在芯片上套刻制造出表面光滑的微透镜阵列，是AR/VR设备的核心组件。在精细艺术品制造领域，系统成功制造出尺寸达到厘米级的精细3D艺术品，实现了从微观纳米尺度到宏观结构的完美跨越，充分证明了该技术在保证超高分辨率的同时，具备大规模制造复杂结构的卓越能力。
UV SCAN 100: 开启微纳制造新范式
同期发布的UV SCAN 100是一款超高性价比的2英寸UV激光直写光刻机，专为科研探索与小批量生产设计，可兼容手套箱，提供灵活与高精度的微纳加工解决方案。
UV SCAN 100采用无掩模激光直写技术，以405 nm紫外激光为光源，实现最小线宽0.25 μm，接近物理衍射极限。系统加工幅面为48 mm × 48 mm，加工速度18 mm²/h，自动对焦精度±0.2 μm，重复定位精度达到±0.12 μm，支持硅片、玻璃等多种基板（真空吸附），并配备自主研发的AstraWrite软件系统。
这款产品的四大差异化优势令人印象深刻。在体积方面，设备主体仅重12 kg，尺寸仅为463 × 160 × 535 mm³，相比竞品动辄597 kg乃至1000 kg的”庞然大物”，UV SCAN 100可轻松放入手套箱实环境中操作。这意味着研究人员可以在惰性气氛或高洁净度的手套箱内直接进行钙钛矿、量子点等空气敏感材料的微纳加工，无需将样品转移至外部设备，从根本上避免了材料降解风险，这一能力在同类产品中极为罕见真正实现了”桌面级”光刻。
在精度方面，系统采用国产高性能激光器、声光调制器、振镜系统和自主研发高精度光学系统，配合纳米级精密运动平台，实现接近物理衍射极限的加工能力。在操作方面，AstraWrite软件支持梯度功率和焦点偏移曝光参数阵列，一次筛选最佳曝光参数，并支持一键式上样、自动对焦、自动对准和自动曝光全流程。在价格方面，售价仅为80-120万元人民币，相比国际竞品Heidelberg DWL 66+的300万元级别，以不到一半的价格实现了相近甚至更优的性能。
UV SCAN 100适用于半导体与集成电路领域的芯片快速原型制作、小批量试产及IC载板、先进封装（RDL/TSV）等环节的精密加工，同时广泛覆盖微光学与AR/VR领域，支持光栅、衍射光学元件（DOE）的高精度加工制造以及量子点、钙钛矿等纳米晶的原位图案化成型。
扎根合肥，创新未来
超奈科技于2024年8月成立，落地合肥科大硅谷，先后获得科大硅谷子基金、合肥市种子基金的支持。从公司成立到两款重磅产品同时发布，短短一年半时间里，超奈科技已成长为拥有全球领先产品线的硬科技企业。两款设备在正式发布前均已分别中标高校采购项目，充分验证了产品的技术实力，也标志着国产化解决方案初步赢得高端科研市场的认可。
陈世祈教授在致辞中特别感谢了合肥市政府、高新区管委会以及科大硅谷的鼎力支持：”我们深切感受到了合肥’不仅引资，更重育人’的产业温度。正是合肥政府的大力支持，让我们在短短一年半内，成长为拥有全球领先产品的硬科技企业。”
展望未来，超奈科技将继续扎根合肥，依托合肥强大的产业生态与一流的科创环境，持续推动产品迭代与技术升级，让中国智造的微纳打印设备服务全球创新者，为合肥打造具有国际影响力的微纳制造产业集群贡献力量。
