UV SCAN 100
手套箱兼容激光直写系统
系统可用于微纳结构的高精度图形加工，实现亚微米级分辨率与高精度定位能力。兼具大面积图形加工能力与亚微米级精度保证。应用于微型显示芯片等光电器件的研发，以及钙钛矿等氛围敏感材料的测试场景，其超紧凑体积可实现手套箱恒定氛围内使用。
系统可用于微纳结构的高精度图形加工，实现亚微米级分辨率与高精度定位能力。兼具大面积图形加工能力与亚微米级精度保证。应用于微型显示芯片等光电器件的研发，以及钙钛矿等氛围敏感材料的测试场景，其超紧凑体积可实现手套箱恒定氛围内使用。
超快 · 超精 · 多材料 3D 纳米打印平台
基于其高分辨率、高加工效率及低成本，飞秒投影能够首次实现多材料纳米制造的工业规模应用，为纳米技术、生物技术、医疗保健、可再生能源和电子等行业带来巨大影响。
通过专用软件完成微纳结构设计，系统自动将图形数据转换为控制指令，简化打印流程。
紫外激光束经声光偏转器和高精度振镜系统协同调制，通过高数值孔径(NA)物镜精准聚焦至光刻胶表面，确保曝光质量。
激光束沿预设路径执行高速、高精度的逐点扫描曝光，实现亚微米级分辨率的稳定控制。
设备体积小巧，可灵活置入手套箱内，在恒定氛围环境中稳定运行，满足钙钛矿等氛围敏感材料的研发与测试需求。
UV SCAN 100i 适用于芯片快速原型制作、小批量试产，以及IC载板、先进封装（RDL/TSV）等环节的精密加工。
UV SCAN 100i广泛应用于AR/VR、激光雷达及光谱分析等前沿领域，是高端光学设备的核心基石。支持光栅、衍射光学元件(DOE) 的高精度加工制造；快速高精度制备转印模板。支持量子点、钙钛矿等纳米晶的原位图案化成型，以应用于微型器件集成。
UV SCAN 100 具备极高的分辨率与制造效率，以下是其关键性能参数与适用领域。
| 技术参数 | 规格数值 |
|---|---|
| 打印参数(Writing performance) | |
| 最小特征尺寸XY | 250 nm |
| 最小等间距线栅 | 560 nm |
| 打印速度 | 18 mm²/h |
| 曝光面积 | ≥ 0.25 mm x 0.25 mm (单次加工范围，支持拼接实现更大图形) |
| 相邻曝光区域拼接误差 | ≤ 150 nm |
| 系统参数 (System parameters) | |
| 样品台XY双向重复定位精度 | ≤ 120 nm |
| 最小移动步距 | ≤ 50 nm |
| 打印范围 (XY) | 48 x 48 mm² |
| 基底类型 | 载玻片/圆晶片 |
| 基片厚度 | 0 - 4.5 mm |
| 样品尺寸 | 5 x 5 mm² to 48 x 48 mm² (可按需求定制) |
| 隔振 (可选) |
平台尺寸 ≥ 400 x 30 mm 带宽 1~200 Hz 效率 >90% @ 5 Hz, 90%~99% @ 10 Hz |
| 光源 | 405 nm |
| 长 x 宽 x 高 (仅限光刻单元) | 463 x 160 x 535 mm³ |
| 重量 (仅限光刻单元) | 12 kg (背包级) |
| 供电 | 230 VAC ±5%, 50/60 Hz, 16 A |
顶尖硬件配置 高度国产化：采用国产高性能光学器件与自主研发高精度光学系统，配合纳米级精密运动平台，奠定卓越精度基础。
极致精度指标：最小线宽可达 0.25 μm ，接近物理衍射极限。
卓越品质承诺：提供长期技术支持与完善的维保服务。
无掩模数字化流程：无需制作昂贵的物理掩模版，设计修改仅需更新数字文件。
快速原型验证：无论是复杂电路还是精细微纳结构，均可灵活适配，实现从概念设计到原型样本的快速转化，显著缩短研发周期、降低研发成本。
高效参数筛选：支持梯度功率与焦点偏移曝光参数阵列，一次曝光即可快速锁定最佳工艺参数。
一键式自动化流程：集成一键上样、自动对焦、自动对准和自动曝光等功能，显著提升打印效率，降低维护成本。
人性化交互界面：操作逻辑清晰直观，降低学习成本。
UV SCAN 100i 适用于芯片快速原型制作、小批量试产，以及IC载板、先进封装（RDL/TSV）等环节的精密加工。
UV SCAN 100i广泛应用于AR/VR、激光雷达及光谱分析等前沿领域，是高端光学设备的核心基石。支持光栅、衍射光学元件(DOE) 的高精度加工制造；快速高精度制备转印模板。支持量子点、钙钛矿等纳米晶的原位图案化成型，以应用于微型器件集成。
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