线扫描时空聚焦双光子光刻技术（Line-TF TPL）

Line-TF TPL 是一种突破性的双光子聚合（TPP）3D纳米制造技术，结合了时空聚焦与线扫描机制。其核心创新在于：

  • 使用数字微镜器件（DMD） 动态控制激光脉冲的空间分布；

  • 通过线形光束扫描取代传统的单点聚焦扫描；

  • 实现并行化加工，大幅提升打印速度与结构一致性。

我们的技术

线扫描时空聚焦双光子光刻
（Line-TF TPL）

传统并行双光子光刻速度慢、精度低、灰度控制有限且需高脉冲能量，而线扫描时空聚焦双光子光刻（Line-TF TPL）以快约1000倍的速度、近各向同性的高分辨率、1600级灰度调控及低能耗实现连续、无拼接伪影的纳米制造。

光敏樹脂 機制

TPP 技術所使用的光敏樹脂是一種專為高精度微奈米製造設計的功能性材料，通常由以下三類關鍵成分組成：

  • 單體／寡聚物

    這些為可聚合的基礎結構單元，於聚合反應中交聯形成堅固的三維固體網絡，是最終成型結構的主體材料。

  • 光引發劑

    具備對特定波長光敏感的分子，能在吸收雷射能量後迅速產生自由基或陽離子，進而觸發聚合反應。其分子能級結構是實現雙光子吸收機制的關鍵。

  • 功能性添加劑

    依應用需求調整，例如強化機械強度、提升光學透明度、調節流變性質，或增強耐候與穩定性等，確保製程穩定與最終結構性能符合應用標準。

TTP的核心優勢

TPP 技術所使用的光敏樹脂是一種專為高精度微奈米製造設計的功能性材料，通常由以下三類關鍵成分組成：

亞波長加工能力

體素尺寸可達 100–200 奈米，突破傳統光學繞射極限，實現超高解析度。

三維自由成型

不受層層堆疊限制，可於樹脂體積內任意位置進行點對點加工，真正實現 3D 自由製造。

高材料利用率

聚合反應僅限於焦點區域進行，大幅減少不必要的材料消耗，達到近乎零浪費製程。

不受氧氣影響

相較於傳統光聚合反應，TPP 不易受氧氣抑制，提升工藝穩定性與可靠性。